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• 除单腔之外,另可搭载有磁场ICP(ISM)或NLD等离子源、去胶腔体、CCP腔体等对应多种刻蚀工艺。
• 为实现制程再现性及安定性搭载了星型电极及各种调温技能。
• 拥有简便的维护构造,缩短了downtime,提供清洗、维护及人员训练服务等综合性的售后服务体制。
• 专门的半导体技术研究所会提供完备的工艺支持体制。