刻蚀设备_爱发科商贸(上海)有限公司

量产用刻蚀设备NE-5700/NE-7800

NE-5700/NE-7800

量产用刻蚀设备NE-5700/NE-7800是可以对应单腔及多腔、重视性价比拥有扩展性的刻蚀设备。

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高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H

NE-7800系列

高密度等离子客户装置ULHITE NE-7800H是对应刻蚀FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等器件所用的高难度刻蚀材料（强电介质层、贵金属、磁性膜等）的Multi-Chamber型低压高密度等离子刻蚀设备。

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研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570

NLD系列

研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570，是搭载了爱发科磁性中性线（NLD- neutral loop discharge）等离子源的装置，此NLD技术可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子。

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干法刻蚀设备 APIOS NE-950EX

NE-950系列

对应LED量产专用的干法刻蚀设备｢NE-950EX｣相对我司以往设备实现了140%的生产力。是搭载了ICP高密度等离子源和爱发科自有的星型电极的干法刻蚀设备。

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对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700

对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线（NLD- neutral loop discharge）等离子源的量产用干法刻蚀装置。（可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子）

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批处理式自然氧化膜去除设备 RISE-300

RISE系列

批处理式自然氧化膜去除设备RISETM-300是用于去除位于LSI的Deep-Contact底部等难以去除的自然氧化膜的批处理式预清洗装置。可处理200mm，300mm尺寸晶圆。

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