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研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570
研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570,是搭载了爱发科磁性中性线(NLD- neutral loop discharge)等离子源的装置,此NLD技术可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子。
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产品特性 / Product characteristics
•
NLD用于与ICP方式相比更低压、高密度、更低电子温度等离子体的石英、玻璃、水晶、LN/LT基板的加工。
•
高硬玻璃、硼硅酸玻璃等不纯物的多种玻璃加工,在形状或表面平滑性方面有优异的刻蚀性能。
•
石英及玻璃作为厚膜resist mask时的也可实现深度刻蚀(100μ m以上)。
•
可实现高速刻蚀(石英>1μ m/min、Pyrex>0.8μ m/min)
•
可追加cassette室。
产品应用 / Product application
•
光学器件(光衍射格子、変调器、光开关等等)、凹凸型微透镜。流体路径作成或光子学结晶。
产品参数 / Product parameters
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