干法刻蚀设备 APIOS NE-950EX_爱发科商贸(上海)有限公司

对应LED量产专用的干法刻蚀设备｢NE-950EX｣相对我司以往设备实现了140%的生产力。是搭载了ICP高密度等离子源和爱发科独自开发的星型电极的干法刻蚀设备。

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若想了解更多请致电182-2185-4021

产品特性 / Product characteristics
• 4 inch晶圆可放置7片同时处理，6 inch晶圆可实现3片同时处理，小尺寸晶圆方面，2 inch晶圆可实现29片、3英寸可对应12片同时处理。

• 搭载了在化合物半导体领域拥有600台以上出货实绩的有磁场ICP（ISM）高密度等离子源。

• 高生产性（比以前提高140%）。

※1 爱发科专利第3188353号

• 为防止RF投入窗的污染待在了爱发科独自开发的星型电极。

※2 爱发科专利第3429391号

• 彻底贯彻Depo对策，实现了维护便利、长期稳定、高信赖性的硬件。

• 拥有丰富的工艺应用的干法刻蚀技术（GaN蓝宝石、各种Metal、ITO、SiC、AlN、ZnO、4元系化合物半导体）。

• 丰富的可选机能。
产品应用 / Product application
• 对应LED的GaN、蓝宝石、各种金属、ITO等的干法刻蚀设备
产品参数 / Product parameters

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